آشنایی با دستگاه پوشش خلاء

بستری که باید روکش شده باشد ، بستر نامیده می شود و ماده ای که باید پوشانده شود هدف نامیده می شود. بستر و هدف در همان محفظه خلاء قرار دارند.
پوشش تبخیر به طور کلی هدف را گرم می کند به طوری که اجزای سطح به شکل گروههای اتمی یا یون ها تبخیر می شوند. و بر روی سطح بستر مستقر می شود و از طریق فرآیند شکل گیری فیلم (یک فیلم نازک (ساختار ساختار-ساختار-ساختار واگال)) یک فیلم نازک را تشکیل می دهد. برای پوشش پاشش ، می توان آن را به عنوان بمباران هدف با الکترون ها یا لیزرهای پر انرژی و پاشیدن اجزای سطح به شکل گروه های اتمی یا یون ها و سرانجام رسوب بر روی سطح بستر ، تحت عنوان فرآیند شکل گیری فیلم و در نهایت تشکیل یک فیلم نازک درک کرد.